Moduł oferowany także w ramach programów studiów:
Informacje ogólne:
Nazwa:
MEMS and nanotechnology
Tok studiów:
2013/2014
Kod:
RMS-2-305-MD-s
Wydział:
Inżynierii Mechanicznej i Robotyki
Poziom studiów:
Studia II stopnia
Specjalność:
Mechatronic Design
Kierunek:
Mechatronics with English as instruction languagege
Semestr:
3
Profil kształcenia:
Ogólnoakademicki (A)
Język wykładowy:
Angielski
Forma i tryb studiów:
Stacjonarne
Strona www:
 
Osoba odpowiedzialna:
dr inż. Mańka Michał (mmanka@agh.edu.pl)
Osoby prowadzące:
dr inż. Mańka Michał (mmanka@agh.edu.pl)
dr hab. inż, prof. AGH Martowicz Adam (adam.martowicz@agh.edu.pl)
Krótka charakterystyka modułu

Opis efektów kształcenia dla modułu zajęć
Kod EKM Student, który zaliczył moduł zajęć wie/umie/potrafi Powiązania z EKK Sposób weryfikacji efektów kształcenia (forma zaliczeń)
Wiedza
M_W001 has basic knowledge about changes in physical phenomena with the change of scale from macro and mezo scale to mikro and nano scale MS2A_W01 Aktywność na zajęciach,
Kolokwium,
Udział w dyskusji,
Wynik testu zaliczeniowego
M_W002 knows environmental requirements for MEMS and NEMS manufacturing and can define those requirements for given process MS2A_W07 Aktywność na zajęciach,
Kolokwium,
Udział w dyskusji,
Wynik testu zaliczeniowego
M_W003 knows methods and techniques used in MEMS manufacturing for material deposition, is able to choose proper method of deposition for given materials MS2A_W01 Aktywność na zajęciach,
Udział w dyskusji,
Wykonanie ćwiczeń,
Wynik testu zaliczeniowego
M_W004 knows methods and techniques of material removing in the process of the MEMS manufacturing, is able to choose proper method and set its parameters for given materials MS2A_W03 Aktywność na zajęciach,
Kolokwium,
Udział w dyskusji,
Wynik testu zaliczeniowego
M_W005 knows method and techniques of lithography process, materials and equipment used during process MS2A_W03 Aktywność na zajęciach,
Udział w dyskusji,
Wynik testu zaliczeniowego
M_W006 knows method of MEMS testing Aktywność na zajęciach,
Kolokwium,
Wynik testu zaliczeniowego
Umiejętności
M_U001 is able to work in the teams, prepare project's documentation and present the results of the work Prezentacja,
Sprawozdanie
M_U002 is able to design and simulate of some MEMS devices MS2A_U07 Sprawozdanie,
Wykonanie ćwiczeń laboratoryjnych
M_U003 is able to used CAE tools for MEMS designing process; is able to verify behaviour of the designed structures with CAE tools MS2A_U07 Sprawozdanie,
Wykonanie ćwiczeń laboratoryjnych
Matryca efektów kształcenia w odniesieniu do form zajęć
Kod EKM Student, który zaliczył moduł zajęć wie/umie/potrafi Forma zajęć
Wykład
Ćwicz. aud
Ćwicz. lab
Ćw. proj.
Konw.
Zaj. sem.
Zaj. prakt
Inne
Zaj. terenowe
Zaj. warsztatowe
E-learning
Wiedza
M_W001 has basic knowledge about changes in physical phenomena with the change of scale from macro and mezo scale to mikro and nano scale + - - - - - - - - - -
M_W002 knows environmental requirements for MEMS and NEMS manufacturing and can define those requirements for given process + - - - - - - - - - -
M_W003 knows methods and techniques used in MEMS manufacturing for material deposition, is able to choose proper method of deposition for given materials + - - - - - - - - - -
M_W004 knows methods and techniques of material removing in the process of the MEMS manufacturing, is able to choose proper method and set its parameters for given materials + - - - - - - - - - -
M_W005 knows method and techniques of lithography process, materials and equipment used during process + - - - - - - - - - -
M_W006 knows method of MEMS testing + - - - - - - - - - -
Umiejętności
M_U001 is able to work in the teams, prepare project's documentation and present the results of the work - - + - - - - - - - -
M_U002 is able to design and simulate of some MEMS devices - - + - - - - - - - -
M_U003 is able to used CAE tools for MEMS designing process; is able to verify behaviour of the designed structures with CAE tools - - + - - - - - - - -
Treść modułu zajęć (program wykładów i pozostałych zajęć)
Wykład:
  1. Lithography process in MEMS manufacturing

    Masked lithography.
    Photoresist deposition.
    Developing of the photoresist.
    Maskless lithography.
    High profile structures.

  2. Material romoval methods in MEMS manufacturing

    Isotropic vs anisotropic etching.
    Wet etching methods.
    Dry etching methods.
    Chemical etching.
    Physical etching.

  3. Influeance of scale of the objects on observed phenomena

    Influence of some physical phenomena on micro mechanisms.
    Properties of materials in MEMS and NEMS systems

  4. Enviromental requirements of MEMS manufacturing process

    Environmental requirements of the MEMS manufacturing.
    Cleanroom technology.
    Process environmental requirements.

  5. Layer deposition methods in MEMS manufacturing

    Bulk micro-machining.
    Surface micro-machining.
    Methods of materials’ deposition.
    Mono-crystals manufacturing.
    Metal layer deposition. Sputtering
    Enhanced methods of material deposition.

  6. Packaqging and testing of the MEMS

    MEMS packaging methods
    Influence of the environment on the MEMS/NEMS system.
    MEMS testing methods

Ćwiczenia laboratoryjne:
  1. Getting started with CoventorWare -CAE enviroment
  2. Mask designing methods in CoventorWare
  3. FEA 3d models of MEMS systems in CoventorWare
  4. MEMS simulation in CoventorWare with multiphysics approach
  5. Getting started with MEMS CAD/CAE tools
Nakład pracy studenta (bilans punktów ECTS)
Forma aktywności studenta Obciążenie studenta
Sumaryczne obciążenie pracą studenta 60 godz
Punkty ECTS za moduł 2 ECTS
Udział w wykładach 15 godz
Udział w ćwiczeniach laboratoryjnych 15 godz
Przygotowanie do zajęć 20 godz
Samodzielne studiowanie tematyki zajęć 5 godz
Przygotowanie sprawozdania, pracy pisemnej, prezentacji, itp. 5 godz
Pozostałe informacje
Sposób obliczania oceny końcowej:

60% laboratories, 40% lectures’ test, both elements should be positive

Wymagania wstępne i dodatkowe:

Nie podano wymagań wstępnych lub dodatkowych.

Zalecana literatura i pomoce naukowe:

Gad-el-Hak I.:The MEMS Handbook,CRC Press,2001
Bhushan: Handbook of Nanotechnology, Springer, 2003
Gianchandani, Y.B, Tabata O., Zappe H, Comprehensive Microsystems,Elsevier, 2007

Publikacje naukowe osób prowadzących zajęcia związane z tematyką modułu:

Nie podano dodatkowych publikacji

Informacje dodatkowe:

Brak